仪器去污处理

在检测含有害材料的样品之后以及在返回仪器给我们进行维护或维修之前,请对仪器进行去污处理。

注   如果您的仪器需要维护或维修,请联系我们或当地经销商。

注   

不要在基座上使用氢氟酸 (HF)。 氟离子会永久损坏石英光纤电缆。

为了防止溢漏导致的损坏,将液体容器保持远离仪器。

不要在仪器附近使用喷射器或喷雾瓶,因为液体会流入仪器并可能导致永久性损坏。

避免让盐酸、醇、漂白剂、丙酮或其他任何溶剂留在隔膜上超过一分钟,否则,将会导致密封件松动。 如果隔膜松动,请联系我们

 

需要使用的耗材

无绒实验室抹布

去离子水 (DI H2O)

0.5% 次氯酸钠溶液(1:10 商业漂白剂稀释,新鲜制备)

移液器

若要去污处理基座

1. 抬起仪器检测臂,用新的实验室抹布擦拭上下基座。

2. 将 2–3 µL 稀释的漂白溶液
(请参阅“需要使用的耗材”)移至下基座。

3. 降下检测臂并等待 2–3 分钟。

4. 抬起检测臂,用新的抹布擦拭上下基座。

5. 将 3–5 µL DI H2O 移取至下基座。

6. 降下检测臂并等待 2–3 分钟。

7. 抬起检测臂,用新的抹布擦拭上下基座。

CH10_Image_100390.jpg

 

 

若要去污处理仪器表面

 

1. 用稀释的漂白溶液浸湿干净的软布或实验室抹布
(请参阅“需要使用的耗材”),然后用它轻轻擦拭仪器的外表面。

2. 用 DI H2O 浸湿干净的软布或抹布去除漂白溶液。